溅射镀膜的溅射源 (阴极) 不同于真空蒸发镀膜的蒸发源, 后者采用陶瓷等蒸发源时,
膜层里易混入蒸发源材料 (坩埚等材料) 的成分, 成为膜层的杂质。 溅射镀膜的膜层不会掺
入此类杂质, 因此膜层的纯度高。 溅射室的气体污染源会使沉积膜层产生杂质, 主要的气体
污染源有: 残余气体中的水蒸气、 由于离子轰击从器壁解吸出来的气体、 靶中吸附气体和组
成气体的释出、 溅射室的泄漏、 工作气体本身的污染物。 这些污染大多数可以用良好的真空
技术和恰当的预溅射次数来消除, 以减少外部气体的掺杂。