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间歇式生产的工艺流程是怎样的?

2023-11-20 信息编号：1316903 收藏

间歇式生产的工艺流程如图4-7所示。

间歇式生产法的生产过程是怎样的?
真空磁控溅射法的生产方式有间歇式生产及连续式生产两种,其中连续式生产又分为水平连续式生产法和垂直连续式生产法。间歇式生产过程基本如下。玻璃基片运入车间后,经人工检验,将质量合乎要求的...

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平面靶结构示意
1—靶材;2—垫板;3—永久磁铁;4—阴极板;5—上盖板;6—边部屏蔽板;7—侧边屏蔽板;8—绝缘板;9—金属杆4-34溅射材料(靶材)怎样平面安装?平面靶的结构示意见图4-5。靶材(溅射材料)安装在溅射源的...

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真空磁控阴极溅射法的原理是什么? 溅射材料有几种安装方法?
磁控溅射是在真空室中进行的,将真空室的气体抽空,阴极接通负电压(-500~-800V),阳极接通正电压(0~100V),并向真空室充入工作气体(一般用氩气)。当真空室的负压达到溅射工作压力10-4~10-5Pa时,在阴...

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不同的靶材对溅射效率有什么影响?
不同靶材获得的膜层性能不同,靶材的选择与组合应满足玻璃镀膜性能需要。对于不同的靶材,其溅射效率不同,表4-3给出了不同能量下用氢离子溅射靶材料时各种靶材的溅射产额,溅射产额越高,溅射效率越...

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磁控溅射镀膜的溅射材料 (靶材) 有哪些?
溅射材料(靶材)通常制成矩形板、圆形板、辊形。小型溅射装置的靶材也有做成圆盘形或棒形。金属、半导体、合金、卤化物(通常是氟化物)、氧化物、硫化物、硒化物、碲化物、元素周期表中Ⅲ~Ⅴ族单...

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气体污染对溅射室内的放电有什么影响?
溅射镀膜的溅射源(阴极)不同于真空蒸发镀膜的蒸发源,后者采用陶瓷等蒸发源时,膜层里易混入蒸发源材料(坩埚等材料)的成分,成为膜层的杂质。溅射镀膜的膜层不会掺入此类杂质,因此膜层的纯度高。溅...

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